氢氟醚GFD－HFE02

       随着科技发展，电子产品的集成度越来发挥高，要确保产品的功能正常，产品的清洗变得极为重要。过去电子行业通常使用的HCFC因为含氯，作为过渡性替代清洗溶剂，将被禁用。

    GFD－HFE02由于其优异的环保特性，成为长期的解决方案。为需要精密清洗制程的产业提供了有效，安全，符合环保法规的解决方案。产品既有适度的溶解性，又有良好的材料相容性。而且和以前被使用的氟化液相比臭氧层破坏指数为0，全球变暖潜在值（GWP值）极低，大气寿命短，满足环保法规的要求。

    GFD－HFE02是一种无色透明且粘度低，不易燃，安全性非常高的液体。和以前的氟化溶剂用途一样可以作为清洗溶剂使用。被用于半导体，液晶，硬盘制造、光学镜片、电子元器件、航空，还可以应用于医疗设备的清洗。可使用原有的超声波清洗设备，不需要增加设备投资，也不需要对工艺做大的改变。

主要成分：四氟乙基三氟乙基醚

CAS：406－78－0

分子式：HCF2CF2OCH2CF3

分子量：200.06

EINECS号：无

分子结构：

外观：无色透明液体 沸点（℃）：56.2 @ 760 mmHg

熔点（℃）： -91

密度(g/mL)：1.487 @ 25℃

折光率：1.2760 @ 20℃

闪点（℃）：无闪点

特性：

干燥性：沸点适中，蒸发热小，干燥性优良

渗透性：表面张力较小，可以渗入微小缝隙

不燃性：没有引火点，不属于危险化学品

对材料的影响：对大部分树脂、金属没有影响

再生：可以蒸馏再生

包装规格：25kg/250kg